薄膜太阳能电池同类处理工艺

 薄膜太阳能电池的主要处理步骤有：电池芯板，电池四周喷砂或激光处理，超声焊接，检测，层压，装边框，装接线盒，连接线夹，包装等。

薄膜太阳能电池主要有三种制造工艺，第一种是单室，多片玻璃衬底制造技术，这项技术主要以美国Chronar，APS，EPV公司为代表；第二种是多室，双片（或多片）玻璃衬底制造技术，该技术主要以日本KANEKA公司为代表；第三种卷绕柔性衬底制造技术，衬底主要为不锈钢，聚酰亚胺，该技术主要以美国Uni-Solar公司为代表。

国内有许多国产化设备的生产厂家，每条生产线非晶硅沉积只用一个真空室，真空室可装2个沉积夹具，或者3个沉积夹具，或者4个沉积夹具；也有每条生产线非晶硅沉积有2个空室或3个真空室，而每个真空室可装2个沉积夹具或者三个沉积夹具。总之，目前国内主要非晶硅电池生产线不管是进口还是国产均主要是用单室，多片玻璃衬底制造技术。

电池的背电极通常采用镀铝的方法，镀铝有两种方法，一种是蒸发镀铝，工艺简单，设备小巧，设备投资少，运行成本比较低，但是膜厚不均匀，掩膜效果难保证，操作耗费人工，适合小面积的镀膜。第二种是磁控溅射镀铝，膜层均匀性好，牢固，质量保证，适合大面积镀铝，缺点是设备投资大，运行成本高。

采用低成本，非真空的机械力化学法及旋涂/硒化法制备了可用于太阳能电池的黄铜矿结构CIGS薄膜光吸收层。非真空机械球磨法制备了黄铜矿型CIGS纳米粉体材料，系统的制备CIGS纳米粉体的结构和形貌，利用一种实用高效的快速升温热处理炉，采用非真空旋涂法制备了闪锌矿结构CZTSe前驱体薄膜。

采用射频磁控建设法制备平整，致密且呈柱状生长的MO底电极层薄膜，随着溅射功率增加，工作压强增大，靶基距的变小，薄膜的结晶性更完整。

化学水浴沉积法制备表面平整的四方结构CdS薄膜。随着水浴反应时间 延长，XRD结构测试表面CdS薄膜的主要衍射峰强度逐渐增强，这样可以有效地减少CdS薄膜空隙，透光性超过70%，且随着化学浴沉积时间延长，其光透过率逐渐减小。