用于半导体的兆声清洗
用于半导体的兆声清洗 用于半导体的兆声清洗 是一种高效的清洗方式,能够去除晶圆表面纳米颗粒污染物。 兆声清洗利用兆赫兹级别的超高频超声波能量推动基材表面亚微米级颗粒的去除以及化学反应。相比于低频超声波空化效应,兆声波空化效应可清除更小的颗粒并且大幅降低对基材的损伤。在喷淋式兆声清洗的过程中,清洗液通过喷嘴形成雾状,兆声波通过清洗液作用于被清洗物表面,实现高效、无损伤的清洗。 它不仅能在短时间内完成大面积的清洗任务,还能在保证清洗效果的同时,减少对被清洗物的损伤。它通过高频振荡电路产生高频振动,将这种振动转换成超声波,并在清洗液中产生微射流和冲击波,对被清洗物品进行冲击和振动,从而将附着在物品表面的污垢、油脂、杂质等清洗干净。此外,喷淋式兆声清洗的适用范围也非常广泛,它可以适用于各种晶圆、芯片、金属等表面物体的清洗。 [...]