喷涂光刻胶的关键技术

喷涂光刻胶的关键技术在于超声低压喷雾喷嘴,通过高频震荡方式产生微小的光刻胶液滴,光刻胶雾化液滴由加气系统控制加速定向喷于晶圆表面:由于晶圆处于加热状态,微小光刻胶液迅速固化,几乎没有时间因重力、表面张力等流变因素发生流动或堆积。

超声波喷涂光刻胶与旋转式涂胶或光刻胶电镀技术相比具有很多优势。例如,超声波喷涂光刻胶的方式可以在保持光刻胶厚度、均匀性良好的同时显著地节约光刻胶的用量。

实际上,在得到相同膜厚的情况下,超声波喷涂式涂胶工艺和旋转式涂胶工艺相比,前者节约光刻胶达10~15倍。超声波喷涂式涂胶工艺与光刻胶电镀技术相比,前者可头在所有表面( 包括半导体和绝缘体 )进行喷涂,而对于光刻胶电镀技术,只能在导电层进行工艺操作。

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