光刻胶涂层系统

光刻胶涂层系统采用超声波喷嘴技术。

替代传统的旋涂设备，UAM4000L设计用于光刻胶涂覆高深宽比和深孔形貌（例如MEMS晶圆）晶圆。系统通常根据需要配置UAC系列或UAL系列超声波喷雾成型喷嘴。 UAM4000L专为100、150、200和300毫米晶圆而设计，提供具有多喷涂方式存储、精确温度控制和集成晶圆锁定功能的自动喷涂。

新的光刻胶涂层系统UAM4000L专门设计用于光刻胶涂覆高深宽比和深孔形貌（例如MEMS晶圆）晶圆。

UAM4000L取代了传统的旋涂设备，在难以涂覆的应用中提供了更均匀的侧壁覆盖。超声波喷涂已经用于光致抗蚀剂沉积多年，并且是用于半导体光刻制造的行之有效的方法。

根据涂层要求，UAM4000L通常配置有UAC系列或UAL系列超声波喷嘴。杭州驰飞的应用工程师团队可确保每个过程的配置正确。该系统的核心是杭州驰飞的专利超声喷嘴技术。所有超声波喷嘴的材料消耗量降低了95％，无堵塞性能，并且以超低流量实现了精确的目标喷涂模式。

UAM4000L独特的系统功能包括：
• 带有记忆功能，自动喷涂
• 设计用于100、150、200和300mm晶圆
• 精确的温度控制
• 集成晶圆锁定
• 高度可重复的注射泵，具有自动填充功能
• 手动晶圆装载/卸载
• 高度可重复，稳定的过程

杭州驰飞在将光致抗蚀剂沉积到MEMS和其他半导体晶圆基板上方面具有广泛的应用专业知识。

要查看新的UAM4000L机器，请访问https://www.cheersonic-liquid.cn/zh/desktop-ultrasonic-multi-function-spraying-machine/

有关超声波喷涂独特技术和完整喷涂解决方案的更多信息，请访问https://www.cheersonic-liquid.cn/。