光刻胶组成
光刻胶组成 – 涂光刻胶的方法 – 光刻胶喷涂机 – 驰飞超声波
光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。
光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）：光引发剂又称光敏剂或光固化剂，是一类能在从光(一般为紫外光)中吸收一定波长的能量，经光化学反应产生具有引发聚合能力的活性中间体的分子。该类光化学反应的产物能与光刻胶中别的物质进一步反应，帮助完成光刻过程。光引发剂对于光刻胶的感光度和分辨率有重要影响。光增感剂、光致产酸剂能够帮助光引发剂更好地发挥作用。
树脂：树脂是光刻胶主要组成部分，决定了光刻胶的粘附性、化学抗蚀性、胶膜厚度等基本性能。光引发剂在光化学反应的产物可以改变树脂在显影液中的溶解度，从而帮助完成光刻过程。
单体：又称为活性稀释剂，对光引发剂的光化学反应有调节作用。
溶剂：溶剂能将光刻胶的各组成部分溶解在一起，同时也是后续光刻化学反应的介质。
和其他助剂：根据不同目的加入光刻胶的添加剂，比如颜料等，作用是调节光刻胶整体的性能。
超声波喷涂技术用于半导体光刻胶涂层。与传统的旋涂和浸涂工艺相比，它具有均匀性高、微观结构良好的封装性和可控制的涂覆面积大小等优点。在过去的十年中，已经充分证明了采用超声喷涂技术的3D微结构表面光刻胶涂层，所制备的光刻胶涂层在微观结构包裹性和均匀性方面都明显高于传统的旋涂。
超声波喷涂系统可以精确控制流量，涂布速度和沉积量。低速喷涂成形将雾化喷涂定义为精确且可控制的模式，以在产生非常薄且均匀的涂层时避免过度喷涂。超声喷涂系统可以将厚度控制在亚微米到100微米以上，并且可以涂覆任何形状或尺寸。
