光刻胶涂层

超声波喷涂技术用于半导体光刻胶涂层。与传统的旋涂和浸涂工艺相比，它具有均匀性高、微观结构良好的封装性和可控制的涂覆面积大小等优点。在过去的十年中，已经充分证明了采用超声喷涂技术的3D微结构表面光刻胶涂层，所制备的光刻胶涂层在微观结构包裹性和均匀性方面都明显高于传统的旋涂。

超声波喷涂系统可以精确控制流量，涂布速度和沉积量。低速喷涂成形将雾化喷涂定义为精确且可控制的模式，以在产生非常薄且均匀的涂层时避免过度喷涂。超声喷涂系统可以将厚度控制在亚微米到100微米以上，并且可以涂覆任何形状或尺寸。

超声波喷涂系统可用于平面和3D结构基材的表面喷涂，包括硅片，玻璃，陶瓷，金属和其他材料。典型的光刻胶涂层应用包括晶片，MEM，透镜，微流控芯片，滤光片等。

超声波喷涂设备

我公司致力于打造一支高科技的研发和管理团队，深耕于市场，逐步成为全球化高端创新型超声波解决方案的引领者。
主要产品包括：实验室超声波纳米喷涂设备，高精密在线式纳米喷涂设备，医疗器械纳米喷涂设备，定制化精密超声波喷涂设备、超声波生产型流水线喷涂设备。

超声波光刻胶喷涂设备
喷涂面积*: 400 x 400mm

超声波光刻胶涂覆设备
喷涂面积*: 500 x 500mm

中试型超声波光刻胶喷涂设备
喷涂面积*: 650 x 650mm

超声波大面积光刻胶涂覆设备
喷涂面积*: 1280 x 710mm

槽式兆声清洗系统
兆声频率 1MHz, 750kHz
最大声强 5.5W/cm2
最大功率 1200-4800W

兆声喷头
兆声频率 1000kHz
最大功率 40W
最大功率 1200-4800W

贴合式兆声清洗系统
兆声频率 1MHz
功率密度 <2W/cm2
液体流量 0.5-3.0 L/min