喷涂氧化钨薄膜

超声波喷涂氧化钨薄膜。超声喷雾热解作为模板化电致变色氧化钨薄膜的加工路线

据报道,介孔氧化钨薄膜是通过许多工艺途径,即浸涂,旋涂,电沉积等方法,并且已经出现了不同的多孔结构。但是,当与更具工业吸引力的喷涂方法相关联时,模板策略变得更具挑战性。液滴的局限环境,液滴运动过程中的温度梯度以及相对较高的底物温度可能会严重改变中间相过程的精细动力学。

我们证明,通过仔细控制沉积条件,可以将模板与超声喷涂热解方法有效结合。为了确定理想沉积温度,在温度范围(100°C-390°C)内是否存在表面活性剂,对新兴薄膜进行结构表征。仅在表面活性剂存在下,才能在较低的沉积温度(100°C和190°C)下获得光滑均匀的薄膜。因此,表面活性剂基本上同时充当润湿剂和模板剂。我们强调孔隙率对增强薄膜电致变色性能的作用。与致密膜相比,多孔膜的光学对比度明显改善(59%vs. 4%),着色效率(40 vs. 6 cm2.C-1)和容量(20 vs. 5 mC cm-2)。

Spray Tungsten Oxide Films - Ultrasonic Spray Pyrolysis - Cheersonic

超声波喷嘴喷涂沉积视频

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