喷涂2UM光刻胶
超声波喷胶机：精准 喷涂2UM光刻胶 ，重塑精密制造新高度
在半导体芯片制造、微机电系统（MEMS）等精密制造领域，光刻胶的喷涂精度是决定产品性能与良品率的关键因素。对于仅 2UM 厚度的光刻胶涂层要求，传统喷胶方式难以满足其严苛标准，而超声波喷胶机凭借创新技术，为光刻胶喷涂带来革命性突破，成为行业高质量发展的重要助力。
传统的光刻胶喷涂设备，如刷涂、普通喷涂等，在处理 2UM 厚度的光刻胶时面临诸多难题。刷涂方式效率低下，且难以精准控制涂层厚度，极易出现厚度不均、流痕等问题，无法达到微米级的精确喷涂；普通喷涂则因雾化颗粒大小不一、分布不均，导致光刻胶在基板表面沉积不均匀，边缘与中心区域的涂层厚度差异明显，严重影响后续光刻图案的转移精度，造成产品良率下降。
超声波喷胶机借助高频超声的空化效应，将光刻胶雾化成均匀、细小的纳米级颗粒。与传统工艺不同，超声产生的微小颗粒在精确控制的气流引导下，能够均匀且稳定地沉积在基板表面，实现 2UM 厚度光刻胶涂层的精准喷涂。通过精密的参数调控，该设备可将涂层厚度误差严格控制在 ±0.1UM 以内，无论是大面积的平板基板，还是具有复杂微结构的异形基板，都能获得一致且高质量的光刻胶涂层。
在实际应用场景中，超声波喷胶机的优势得到充分验证。在先进半导体芯片制造过程中，使用该设备喷涂 2UM 厚度光刻胶，能够精准构建精细的电路图案，使芯片的关键尺寸（CD）精度提升 35%，有效减少因光刻胶涂层不均导致的电路缺陷，产品良品率提高至 92% 以上。在 MEMS 传感器生产环节，针对具有复杂三维结构的基板，超声波喷胶机的非接触式喷涂特性避免了对基板微结构的物理损伤，同时确保 2UM 厚度的光刻胶均匀覆盖每一处细节，保障传感器的灵敏度和稳定性。
此外，超声波喷胶机还具备高度的灵活性与适应性。可根据不同的光刻胶特性、基板材质及生产需求，自由调整超声频率、喷胶流量、喷头移动速度等参数。其高效的喷涂效率相比传统工艺提升近 3 倍，大幅缩短生产周期。驰飞持续对超声波喷胶机进行技术升级，优化设备的智能化程度，搭载的智能监控系统可实时监测喷涂过程中的各项参数，并自动调整，确保每一次 2UM 厚度光刻胶喷涂作业都能稳定、高效地完成。
随着精密制造行业向更高精度、更高性能方向发展，对光刻胶喷涂工艺的要求愈发严格。超声波喷胶机凭借在 2UM 厚度光刻胶喷涂上的卓越表现，必将成为行业的主流选择，持续为半导体、MEMS 等领域的技术创新与产业升级提供坚实保障。
关于驰飞
驰飞的解决方案是环保、高效和高度可靠的，可大幅减少过量喷涂，节省原材料，并提高均一性、转移效率、均匀性和减少排放。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持，保证客户涂层稳定量产；针对特殊器械涂层需求，提供涂层定制研发服务；提供各类涂层代工服务。
杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商，产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
