超声波喷涂屏蔽材料
超声波喷涂技术在屏蔽材料和半导体等电子产品领域有广泛应用,以下是具体介绍:
超声波喷涂屏蔽材料
超声波喷涂技术可用于制备电磁干扰(EMI)屏蔽涂层。在移动设备制造中,将高性能银EMI屏蔽喷漆材料应用于超声波喷涂机的全自动XYZ运动喷涂系统,可实现包装级EMI屏蔽。超声波喷涂的优势在于能使颗粒在薄膜层中均匀分散,避免导电颗粒沉降,从而让涂层具有良好的表面导电性,可对小型装置进行高效屏蔽。同时,该技术能实现几何形状的完全薄膜覆盖,顶部表面与侧壁厚度比率较为理想,且具有高吞吐量的特点,还能在一定程度上节约成本。
超声波喷涂在半导体电子产品中的应用
- 硅片表面涂覆:在半导体制造中,硅片表面的精密涂覆是关键工艺的前置环节。超声波硅片喷涂技术具有非接触特性,可避免滚涂工艺中海绵滚轮压碎硅片的风险,降低碎片率。其涂层厚度范围宽(20nm-100μm),均匀性>95%,台阶覆盖率优异,适用于硅通孔(TSV)等三维结构。而且溶液转换率高达95%,可减少光刻胶等昂贵材料的消耗。
- 晶圆制造与光刻工艺:在TSV硅通孔工艺中,超声波喷涂可精准覆盖深宽比10:1的通孔内壁,光刻胶孔底覆盖率>92%,避免传统旋涂的孔底缺失问题,降低电镀短路风险。同时,超声雾化可将光刻胶破碎为1-50μm微滴,使涂层均匀性>95%,避免“咖啡环”边缘增厚现象。
- 扇出型封装:在重组晶圆表面喷涂介电材料(如BCB胶)时,超声波喷涂技术可实现微米级线路间隙填充,提升再分布层(RDL)的绝缘性与机械强度。
- 碳化硅晶圆处理:通过均匀喷涂抗反射涂层(ARC),可提升碳化硅(SiC)功率器件光刻精度,解决高折射率材料的光反射干扰问题。
- 芯片封装:在5G功率芯片基板喷涂氮化铝陶瓷绝缘层,其热导率>180W/(m・K),较传统聚合物材料提升10倍,能有效解决高密度集成电路的散热难题。
- MEMS传感器制造:通过超声波喷涂5μm厚度的氧化锆陶瓷敏感层,可使传感器响应时间从10ms缩短至1ms,精度提升至0.1%FS,满足自动驾驶激光雷达等的严苛要求。
关于驰飞
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杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商,产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。