超声波喷涂VS溅射和原子层沉积
超声波喷涂VS溅射和原子层沉积 – 超声喷涂 – 驰飞超声波
在半导体、新能源、柔性电子等高新技术领域，薄膜沉积技术是决定产品性能的核心环节。溅射（Sputtering）与原子层沉积（Atomic Layer Deposition, ALD）作为传统主流技术，长期占据市场主导地位，但随着产业向规模化、低成本化转型，其固有短板日益凸显。而超声喷涂（Ultrasonic Spray）技术凭借非真空操作、连续生产等特性，正成为打破技术瓶颈的重要选择，二者的差异在实际应用中逐渐清晰。
溅射与ALD技术的核心局限集中在生产模式与成本控制上。溅射技术通过高能粒子轰击靶材使原子逸出并沉积，ALD则依靠前驱体交替吸附实现原子级精准沉积，二者均需在高真空环境下运行——真空腔体的购置成本动辄数百万，日常维护中真空泵的能耗、密封件的更换以及真空度校准，都形成持续的资金投入。更关键的是，这种真空依赖导致其只能采用批量生产模式，每批工件需经历抽真空、沉积、放气的完整周期，换产时的参数调整更是延长了生产周期，难以适配现代制造业的连续化需求。
与之形成鲜明对比的是，超声喷涂技术以非真空环境为核心优势，彻底摆脱了传统技术的束缚。其原理是通过超声波将液态涂层材料雾化成微米级液滴，再经气流精准输送至基材表面，整个过程在常压下即可完成，省去了复杂的真空系统，设备初期投入仅为溅射或ALD设备的1/5至1/3。对于光伏电池减反射膜、柔性屏透明导电层等大面积涂层需求，超声喷涂可直接整合进流水线，实现从基材输送到涂层固化的一体化生产，产品吞吐量较批量生产模式提升3倍以上。
制造商青睐超声喷涂的核心原因，还在于其灵活的工艺特性与更低的总拥有成本。在工艺控制上，通过调节超声波频率可改变液滴粒径，配合输送气流速度与喷头移动轨迹，能实现10纳米至数微米的涂层厚度调控，且涂层均匀性误差可控制在±5%以内，完全满足多数工业场景需求，尤其适合研发阶段的快速工艺迭代。成本层面，除设备投入优势外，超声喷涂的材料利用率高达85%以上，远优于溅射的40%和ALD的60%，同时无需真空系统的高能耗支持，单条生产线每年可节省数万元电费支出。
当然，三种技术各有适用场景：ALD适用于芯片级原子层精度需求，溅射在金属厚膜沉积中表现稳定，而超声喷涂则在规模化、低成本的薄膜制备中展现出不可替代的优势。随着新能源汽车、柔性电子等产业的爆发，超声喷涂技术正凭借其独特的技术特性，成为推动薄膜沉积工艺向高效、经济转型的核心力量。
关于驰飞
驰飞的解决方案是环保、高效和高度可靠的，可大幅减少过量喷涂，节省原材料，并提高均一性、转移效率、均匀性和减少排放。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持，保证客户涂层稳定量产；针对特殊器械涂层需求，提供涂层定制研发服务；提供各类涂层代工服务。
杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商，产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
