在 Nafion 膜表面均匀喷涂铂、铱等贵金属催化剂 在新能源、电解水及燃料电池等领域，质子交换膜（如Nafion膜）表面均匀负载铂、铱等贵金属催化剂，是影响器件性能和成本的关键工艺之一。近年来，超声波喷涂技术因其出色的均匀性、可控性和材料利用率，逐渐成为该涂层制备过程的核心方法。 超声波喷涂技术的基本原理 [...]

离子膜上喷催化层的好处 在离子膜上喷催化层具有多方面的好处，具体如下： 提高反应效率： 增加反应活性位点：催化层中含有大量的催化剂，喷涂在离子膜上后，能够为电化学反应提供更多的活性位点，使反应更容易进行。例如在燃料电池中，催化层可以促进氢气和氧气的反应，提高电池的性能。 改善离子传输和反应物质传递：催化层的存在可以优化离子在膜中的传输路径，使其更快速地到达反应位点，同时也能促进反应物质在膜表面的扩散和吸附，提高反应的速率和效率。比如在电解水过程中，催化层可以加速氢离子或氢氧根离子的传递，降低电解电压，提高能量转换效率。 [...]

超声波涂覆机用于催化剂层制备 超声波涂覆机用于催化剂层制备 - 在 Nafion [...]

PI 涂层 以下是关于 PI 涂层的一些相关知识： [...]

超声波喷涂机喷涂光刻胶至玻璃上 超声波喷涂机是一种利用超声波振动产生雾化效果的喷涂设备，适用于小批量生产和科学研究实验室定性试验。在喷涂光刻胶至玻璃上的过程中，超声波喷涂机可以提供均匀高效的薄膜涂层。 超声波喷涂技术在微机电系统晶圆和其他3D微结构上直接喷涂光刻胶涂层方面显示出优势，尤其是在高纵横比沟槽和V形槽结构的侧壁顶部，能够实现更加均匀的涂层沉积。此外，超声波喷涂设备具有高稳定性、节材环保、高可控性等特点，适用于多种溶液的雾化喷涂，包括光刻胶。 半导体制造：在半导体芯片的制造过程中，玻璃常被用作晶圆的载体或封装材料。通过超声波喷涂机在玻璃上喷涂光刻胶，可以为半导体芯片的光刻工艺提供高质量的光刻胶涂层，用于制作电路图案等。 光学器件制造：例如制造光学透镜、滤光片等器件时，需要在玻璃表面涂覆光刻胶进行光刻工艺，以形成特定的光学结构或图案。超声波喷涂技术可以满足光学器件对光刻胶涂层的高精度要求。 [...]