光刻胶的喷涂工艺
光刻胶的喷涂工艺 在光刻胶的日常使用中,匀胶是较为常用的涂胶方式,而本文主要围绕光刻胶的喷涂工艺展开介绍,涵盖其核心原理、优缺点、雾化喷涂的形成条件、关键工艺环节、膜层特性影响因素及适配胶体制备等内容,同时提及相关聚酰亚胺材料的研究成果。 一、喷涂工艺基本原理 喷涂工艺通过雾化手段将光刻胶沉积在衬底表面,形成的液滴尺寸通常处于微米级别。这些液滴的形成主要有两种方式:一是借助氮气喷嘴,二是通过超声雾化;之后,液滴会在空气或氮气等载气的携带下,最终沉积在衬底表面,进而形成连续的光刻胶薄膜。 二、喷涂工艺的优缺点 [...]


