About 驰飞超声波

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12 07, 2021

超声波医疗喷涂设备

By |2023-12-13T14:32:44+08:002021年7月12日|

超声波医疗喷涂设备 超声波医疗喷涂设备可用于器械比如药涂支架、外周支架、球囊、创口贴、敷料贴、纳米银、导丝、导管及真空采血管等之精密超声喷嘴及喷涂、喷雾干燥设备。 我们的超声涂层系统可用于将抗再狭窄药物洗脱聚合物溶液喷涂到可植入支架上。我们在喷涂数百种不同级聚合物化学方有知识。超声波喷嘴在喷涂复杂的支架几何形状方有优势,从而确保覆盖支架的所有支杆表面。轻柔的雾化喷雾可以很好地粘附在表面上,可以通过修改工艺参数来调整涂层的形态特征。高压喷嘴无法像超声波涂层系统一样均匀地施加涂层。与浸涂相比,使用超声波施加的涂层要薄得多,节省喷涂材料。由于超声波喷嘴是很少堵塞,因此喷涂质量不会随时间而下降。 关于驰飞 驰飞的解决方案是环保、高效和高度可靠的,可大幅减少过量喷涂,节省原材料,并提高均一性、转移效率、均匀性和减少排放。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持,保证客户涂层稳定量产;针对特殊器械涂层需求,提供涂层定制研发服务;提供各类涂层代工服务。 [...]

3 07, 2021

什么是覆膜支架?

By |2023-12-13T14:22:22+08:002021年7月3日|

什么是覆膜支架? 覆膜支架是一种用于修复或支撑血管受损部分的挠性管。这些支架由金属框架制成,并由一种非常耐用的织物覆盖。将覆膜支架置入受损血管是一种相对简单的手术,即使血管位于心脏周围。 覆膜支架最常见的用途是防止血管中的… 覆膜支架是一种用于修复或支撑血管受损部分的挠性管。这些支架由金属框架制成,并由一种非常耐用的织物覆盖。将覆膜支架置入受损血管是一种相对简单的手术,即使血管位于心脏周围。 覆膜支架最常见的用途是防止血管中的动脉瘤破裂。 [...]

2 07, 2021

内窥镜喷涂

By |2023-12-13T14:21:51+08:002021年7月2日|

内窥镜喷涂 随着医学的发展,腔镜微创手术在外科手术中使用越来越多。在微创手术操作过程中,内窥镜镜头在操作过程中,因为体内温度,脂肪,气腹等原因,镜头很容易模糊,严重影响手术的进行。一般手术医生会用热水烫,但热水对内窥镜镜头有损伤且速度慢。 雾气产生的原因是热的空气碰到冷的物体并在其表面冷凝成小水珠,光照在这些小水珠表面产生漫反射,所以要防雾就要阻止小水珠的形成。 杭州驰飞超声波推出了超声波医疗喷涂设备,是一种新型的覆膜设备可用于喷涂亲水性涂层,可使金属表面(例如塑料表面,玻璃和不锈钢)覆盖均匀的亲水性涂层,由于其表面具备超亲水特性,增大了水的表面张力,水在其表面无法形成水珠,而是一层水膜,从根本上阻止了雾气的形成,从而使得基材具有良好的自洁防雾防结露的性能。该设备适合应用于医用内窥镜镜头、医用镜片、护目镜PC镜片表面。 喷涂工艺: [...]

22 06, 2021

半导体制造中涂胶工艺之超声喷涂

By |2023-12-13T14:20:44+08:002021年6月22日|

半导体制造中涂胶工艺之超声喷涂 超声波雾化喷涂机用于光致抗蚀剂的喷涂,这种喷涂式涂胶技术的关键是超声波喷嘴,它利用换能器的振荡,在雾化表面形成表面波,将光致抗蚀剂雾化成精细液滴,其平均特征直径约为20μm。为满足良好雾化的要求,选用的光致抗蚀剂的黏度最好低于30cps,对于高黏度光致抗蚀剂,可用相应的溶剂进行稀释。光致抗蚀剂溶液的输送采用自动超声波注射泵系统,用计量泵进行精确控制。 超声波雾化喷涂机与其他喷涂设备主要不同之处是选用的喷嘴为超精细压力雾化喷嘴。喷涂时选择恒压泵提供恒定压力的洁净空气或氮气进行压力雾化,并运用二维运动控制平台进行扫描式运动,将雾化成微细颗粒的光致抗蚀剂均匀喷涂至硅片上,形成均匀薄膜。  关于驰飞 [...]

20 06, 2021

晶圆级封装技术有什么特点和应用?

By |2023-12-13T14:17:43+08:002021年6月20日|

晶圆级封装技术有什么特点和应用   引言 晶圆级封装技术是什么?晶圆级封装是指在将要制造集成电路的晶圆分离成单独的电路之前,通过在每个电路周围施加封装来制造集成电路。由于在部件尺寸以及生产时间和成本方面的优势,该技术在集成电路行业中迅速流行起来。以此方式制造的组件被认为是芯片级封装的一种。这意味着其尺寸几乎与内部电子电路所位于的裸片的尺寸相同。 特点 [...]

18 06, 2021

光刻胶涂覆方法

By |2023-12-13T14:45:53+08:002021年6月18日|

光刻胶涂覆方法 目前在晶片制作的光刻工艺流程中,会使用光刻胶涂覆在晶片的特定区域,并进行烘烤定型,在后续工艺中对这一特定区域进行保护,对没有光刻胶涂覆的区域进行曝光、刻蚀,从而在晶片上形成有效图形窗口或功能图形。 一般光刻胶是用涂胶机滴到晶片上,旋转晶片使光刻胶涂布均匀,这种工艺用在表面平坦的晶片上,基本能满足要求。然而,若是晶片表 面不平整,即晶片上有凸点,涂覆光刻胶之后,晶片上凸点所涂覆的光刻胶则会较其他部位薄,即使经过烘烤定型,在后续的工艺中,也有可能不能良好地保护位于其下方区域的晶片,让其遭到曝光和蚀刻损害,所形成的图形也会造成误差。 使用超声波光刻胶涂覆方法能够解决上述问题,超声波光刻胶涂覆机使用特定的喷头和360可旋转的机械结构,能够均匀涂覆于晶片表面,无论是凸点还是凹糟都会均匀覆盖,且超声喷涂雾化液滴极细再配上超声波光刻胶涂覆机的烘干功能,边涂覆边烘干定型,在后续的工艺中,光刻胶能够更好地保护其下方 [...]

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