何为微流控芯片?
何为微流控芯片? 微流控芯片 : 人体实验室的纳米级重构 传统药物研发依赖于动物模型进行毒性、动力学及药效评估,然而,物种差异、伦理争议以及漫长的实验周期严重制约了研发效率。因此,全球范围内迫切需要构建一种革命性的药物筛选平台,它应具备快速、高通量、自动化以及规避种属差异的特性。这种需求的迫切性,如同在药物研发的漫漫征途中点亮了一盏指路明灯。 [...]
何为微流控芯片? 微流控芯片 : 人体实验室的纳米级重构 传统药物研发依赖于动物模型进行毒性、动力学及药效评估,然而,物种差异、伦理争议以及漫长的实验周期严重制约了研发效率。因此,全球范围内迫切需要构建一种革命性的药物筛选平台,它应具备快速、高通量、自动化以及规避种属差异的特性。这种需求的迫切性,如同在药物研发的漫漫征途中点亮了一盏指路明灯。 [...]
电池喷涂 超声波喷涂设备:锂电性能升级的革新力量 在新能源产业高速发展的当下,锂电池作为储能核心,其性能提升备受关注。从手机、笔记本电脑等消费电子,到新能源汽车、储能电站,对锂电池的能量密度、安全性与循环寿命要求不断提高。而涂层工艺作为优化锂电池性能的关键环节,驰飞的超声波喷涂设备凭借独特优势,为锂电行业带来新的突破。 锂电池的生产制造中,电极涂层的质量直接影响电池性能。传统喷涂方式在控制涂层厚度与均匀性上存在局限,难以满足日益严苛的生产标准。驰飞的超声波喷涂设备通过高频振动,将浆料雾化成均匀微小的颗粒,精准喷涂在锂电电极上。这种精确的喷涂方式,能实现超薄且高度均匀的涂层,有效提升电极活性物质的负载量与分布均匀性,进而提高锂电池的能量密度。 在隔膜涂层方面,超声波喷涂同样展现出强大优势。隔膜作为锂电池中隔离正负极、防止短路的关键部件,其表面性能对电池安全性与循环稳定性至关重要。利用超声波喷涂设备,可以将功能性涂层材料均匀涂覆在隔膜表面,形成具有高孔隙率、良好亲液性的涂层,增强隔膜的电解液浸润能力,降低电池内阻,提升循环寿命。同时,均匀的涂层还能避免因局部厚度不均导致的隔膜强度下降,提高电池整体安全性。 [...]
玻璃镜片防雾涂层 在光学应用领域,玻璃镜片(镀表铝镜)的防雾处理一直是备受关注的技术难题。传统方法效果有限,而驰飞创新研发的超声喷涂技术,为玻璃镜片铝膜表面的防雾处理带来了全新解决方案。 超声喷涂防雾技术,是利用超声波的高频振动,将防雾涂层溶液雾化成均匀、微小的颗粒,精准地喷涂在玻璃镜片铝膜表面。与常规喷涂技术相比,超声喷涂的雾滴粒径更小、分布更均匀,能够在镜片表面形成超薄且致密的防雾涂层,这是其实现卓越防雾效果的关键所在。 玻璃镜片上的防雾涂层发挥着至关重要的作用。它通过降低水的表面张力,使水蒸气在镜片表面无法形成阻碍视线的小水珠,而是均匀铺展成一层透明水膜,从而确保镜片始终保持清晰透亮。无论是在温差较大的环境,还是高湿度的空间,带有防雾涂层的玻璃镜片都能有效避免因雾气产生的模糊现象,保障光学设备的正常使用。 超声喷涂在玻璃镜片铝膜表面制作防雾效果,优势显著。其一,能够实现涂层的精确控制,根据不同使用场景与需求,精准调节涂层厚度与成分,在保证防雾性能的同时,最大程度减少对镜片光学性能的影响;其二,超声喷涂技术具有良好的兼容性,可适配多种类型的防雾涂层材料,为不同应用场景提供多样化选择;其三,该技术生产效率高、工艺稳定,能够满足大规模工业化生产需求,助力企业提升产品竞争力。 [...]
AI芯片架构革命 : 三维可重构计算单元的破局之路 在AI算法迭代速度呈指数级增长的当下,半导体行业正面临一场前所未有的架构挑战。当传统专用ASIC芯片还在为适配LLM(大型语言模型)的计算需求而挣扎时,多模态Agentic AI的浪潮已悄然袭来——这要求芯片架构必须具备动态重构能力,以应对每周都在演化的算法范式。近日,行业报告指出,三维可重构AI芯片正成为破解"硬件迭代滞后于软件创新"困局的核心方案。 [...]
小膜电极喷涂 超声波喷涂机赋能小尺寸膜电极,解锁高效制备新方案 在燃料电池和电解水等能源转换领域,膜电极作为核心组件,直接决定着设备的性能与效率。而对于尺寸仅为 21mmx34mm 的小膜电极有效区,其涂层制备精度要求极高,驰飞超声波喷涂机为此提供了创新且高效的解决方案。 [...]
电解水制氢膜电极制备 驰飞超声波喷涂设备:5x5cm² 样品电解水制氢膜电极制备利器 在全球能源转型的大背景下,电解水制氢凭借清洁、可持续的特性,成为获取绿色氢能的重要途径。而膜电极作为电解水制氢装置的核心部件,其性能直接决定了制氢效率与能耗。如何精准制备高性能膜电极,成为科研与产业界关注的焦点。 传统的膜电极制备方法,在处理 [...]
半导体最新预测 2025年5月,权威平台公布了2025年第一季度全球半导体制造业业绩及未来展望。最新数据显示,2025年第一季度电子设备销量环比下降16%,但与去年同期相比保持持平。IC销售额较上一季度下滑2%,但较去年同期大幅增长23%。 在半导体设备投资方面,2025年第一季度环比下降7%,但同比增长幅度高达27%。这一增长主要是由对尖端逻辑、高带宽存储器(HBM)和先进封装的投资所推动。其中,存储器相关设备的资本投资较去年同期大幅攀升57%,非存储器资本投资也增长了15%。 随着人工智能相关的先进逻辑和内存投资日益普遍,晶圆厂设备(WFE)的投资增长迅猛。2025年第一季度与去年同期相比增长了19%,预计第二季度还将增长12%。测试设备销售额与去年同期相比增长了56%,预计第二季度将再增长53%。组装和包装设备同样实现了两位数的增长。 积极的资本投资促使全球晶圆厂产能不断扩张。到2025年第一季度,预计每季度300毫米晶圆产量将突破4250万片,与上一季度相比增长2%,与去年同期相比增长7%。 [...]
电解水催化剂喷涂 电解水催化剂喷涂 :高效制氢的关键技术突破 在新能源发展浪潮中,电解水制氢凭借清洁、可持续的特点,成为获取氢能的重要途径。而电解水催化剂作为加速水分解反应的核心材料,其性能优劣直接影响制氢效率与成本,电解水催化剂喷涂技术则是充分发挥催化剂效能的关键一环。 电解水催化剂的作用在于降低水分解反应的活化能,促使水分子更易发生氧化还原反应,从而高效产生氢气和氧气。常见的电解水催化剂包括贵金属催化剂、过渡金属基催化剂等,不同催化剂各有特性,需通过精准喷涂实现最佳性能。 [...]
喷涂PET膜制备TCO涂层 超声波薄膜喷涂设备:PET 膜制备 TCO 涂层的革新力量 [...]
光掩模技术演进 : 关键挑战与突破方向 随着半导体工艺节点向EUV(极紫外光刻)及更先进技术迭代,光掩模制造已成为半导体产业链中技术门槛最高、成本占比最大的核心环节之一。与此同时,非EUV光刻技术在成熟制程领域的持续应用,使得行业需要在先进制程突破与成熟工艺延拓的"双轨并行"格局中寻找创新平衡点。以下从技术演进、成本控制、材料革新等维度,解析当前光掩模领域的核心挑战与发展趋势。 一、EUV与非EUV光刻的掩模成本困局 [...]