About 驰飞超声波

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15 10, 2026

超声波喷涂机喷涂氮化镓纳米颗粒

By |2026-10-27T08:44:29+08:002026年10月15日|

超声波喷涂机喷涂氮化镓纳米颗粒 超声波喷涂机喷涂氮化镓纳米颗粒 - 高效制备氮化镓纳米颗粒 氮化镓纳米颗粒是第三代半导体核心纳米材料,分子式为GaN,外观呈暗灰色粉末,属于Ⅲ族氮化物,具有纤锌矿、闪锌矿两种主要稳定晶体结构,纯度可达99%以上,粒径通常为10-100nm,密度为6.1 [...]

13 10, 2026

超声波喷涂机喷涂正性电子束光刻胶

By |2026-10-22T14:35:08+08:002026年10月13日|

超声波喷涂机喷涂正性电子束光刻胶 超声波喷涂机喷涂正性电子束光刻胶 - 微纳米光刻提质量产 在微纳加工、半导体先进封装、精密器件制造等高端领域,电子束胶作为电子束光刻的核心耗材,直接决定图形转移的精度与器件性能,而正性电子束光刻胶作为一款高性能电子束胶,凭借优异的分辨率、良好的耐刻蚀性与工艺适配性,成为中高端电子束光刻场景的优选产品。正性电子束光刻胶属于高分子感光树脂类耗材,核心适配电子束光刻工艺,依托电子束照射引发的高分子交联反应实现图形固化,具备分辨率高、收缩率低、附着力强的核心优势,单次涂覆可实现0.5-50μm的膜层厚度,极限分辨率可达100nm以下,显影后图形边缘齐整、无残胶、无溶胀,与常用电子束显影液兼容性极佳,适配硅片、玻璃、金属等多种基材,广泛应用于微纳结构制备、半导体封装、精密传感器制造、掩模版加工等场景,而电子束胶的均匀涂覆是保障电子束光刻精度的关键前提,驰飞超声波喷涂机凭借高精准、低损伤、高适配的核心优势,完美适配正性电子束光刻胶的喷涂需求,为高端光刻工艺提质增效提供核心装备支撑。 [...]

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