喷涂光伏硅片 超声波喷涂赋能 210*105mm 光伏硅片，引领高效光伏新时代 在全球能源转型的浪潮下，光伏产业迎来蓬勃发展期。光伏硅片作为光伏发电的核心组件，其性能优劣直接决定着发电效率。其中，210*105mm [...]

AZ系列光刻胶深度解析 : 探秘光刻胶领域的中坚力量 在光刻工艺的核心材料体系中，AZ系列光刻胶占据着举足轻重的地位，凭借其优异性能，成为众多科研与生产场景的优选材料。该系列光刻胶专为i线、G线光刻精心设计，在紫外光源照射下，分子结构会发生特定变化，从而精准实现图案从掩膜版到基底的转移，充分满足多样化的工艺需求。根据性能与应用场景的差异，AZ系列光刻胶可细分为正胶、负胶以及正负转换胶三大类别。 一、AZ正胶：多样化选择满足不同厚度需求 [...]

超声波喷涂机喷涂子宫球囊 超声波喷涂机喷涂子宫球囊 - 疏水涂层 - [...]

载玻片生物涂层喷涂 超声波喷涂设备赋能 300*300mm  载玻片生物涂层喷涂 ，开启科研与医疗新篇 [...]

光刻胶明星SU-8 ：特性、应用与创新涂布工艺 在光刻工艺的材料家族里，SU-8光刻胶凭借自身独特优势，占据着极为重要的地位。它属于负性光刻胶类别，基于环氧树脂体系构建而成。其“负性”特征体现在，一旦暴露于紫外线之下，受光照射部分的分子会迅速发生交联反应，形成紧密的网络结构，而未被照射的剩余部分依旧维持可溶状态，能在后续的显影环节中被轻松冲洗掉。SU-8光刻胶名字中的“8”，源自其分子结构内所含的8个环氧基团，这些环氧基团在光刻过程里发挥关键作用，它们相互交联，最终塑造出稳固且精准的图形结构 。 一、卓越性能铸就应用优势 [...]

医疗器械涂层技术 医疗器械涂层技术 - 医疗器械表面改性 - [...]

旋涂与超声波喷涂协同技术 揭秘光刻匀胶关键： 旋涂与超声波喷涂协同技术 在半导体光刻工艺中，匀胶环节堪称奠定图案精度的基石，而旋涂速度作为核心参数，深刻影响着光刻胶的最终成膜质量。如何科学确定旋涂速度？它又怎样改变光刻胶的性能？本文将为您深度解析。 一、匀胶过程：从点滴到均匀成膜的精密演绎 [...]

涂胶显影设备 ：光刻工艺的精密搭档与技术革新 在半导体制造的精密光刻工艺中，涂胶显影设备是与光刻机协同作业的核心装备，直接影响芯片的生产精度与良率。它涵盖涂胶机、喷胶机和显影机等设备，通过与光刻设备联机作业（In line），构建起高效的圆片处理与光刻生产线，共同完成从光刻胶涂布、烘烤到显影的复杂工艺流程。 一、涂胶显影与TRACK设备的深度协作 [...]

攻克SU-8光刻胶旋涂均匀性难题 攻克SU-8光刻胶旋涂均匀性难题 ：多维度优化策略与创新技术应用 在半导体制造、微机电系统（MEMS）等精密领域，SU-8光刻胶的均匀涂覆是保障光刻工艺精度的关键。然而，旋涂过程中受多种因素干扰，易出现胶层厚度不均、边缘隆起等问题。深入剖析影响因素并结合创新技术，是实现高质量涂覆的核心路径。 一、四大核心因素影响旋涂均匀性 [...]

医用级PTFE涂层制备 超声波喷涂赋能 PTFE 涂层，革新医疗器械性能 在医疗器械领域，PTFE [...]