MEMS中玻璃基材的精密刻蚀工艺探析
MEMS中玻璃基材的精密刻蚀工艺探析 在微机电系统(MEMS)领域,玻璃因其优异的电绝缘特性、光学透明性、化学惰性以及良好的键合兼容性(例如可与硅实现阳极键合),常被选作衬底材料、封装结构或微流控通道的基板。玻璃的精密刻蚀是制造此类微结构的关键工艺环节,需依据结构精度要求、特征尺寸及玻璃种类选择适宜的方法。玻璃刻蚀技术主要可分为湿法化学刻蚀与干法物理化学刻蚀两大类别。 一、 湿法化学刻蚀:经济性佳,适用于宏观结构 湿法刻蚀依赖化学溶液与玻璃表面的反应实现材料去除,具有操作简便、成本低廉的优点,但其刻蚀方向性较弱(接近各向同性),更适合对侧壁陡直度要求不高的应用(如浅凹槽、宽通道)。 [...]