医疗器械涂层技术
医疗器械涂层技术 医疗器械涂层技术 - 医疗器械表面改性 - [...]
医疗器械涂层技术 医疗器械涂层技术 - 医疗器械表面改性 - [...]
旋涂与超声波喷涂协同技术 揭秘光刻匀胶关键: 旋涂与超声波喷涂协同技术 在半导体光刻工艺中,匀胶环节堪称奠定图案精度的基石,而旋涂速度作为核心参数,深刻影响着光刻胶的最终成膜质量。如何科学确定旋涂速度?它又怎样改变光刻胶的性能?本文将为您深度解析。 一、匀胶过程:从点滴到均匀成膜的精密演绎 [...]
涂胶显影设备 :光刻工艺的精密搭档与技术革新 在半导体制造的精密光刻工艺中,涂胶显影设备是与光刻机协同作业的核心装备,直接影响芯片的生产精度与良率。它涵盖涂胶机、喷胶机和显影机等设备,通过与光刻设备联机作业(In line),构建起高效的圆片处理与光刻生产线,共同完成从光刻胶涂布、烘烤到显影的复杂工艺流程。 一、涂胶显影与TRACK设备的深度协作 [...]
攻克SU-8光刻胶旋涂均匀性难题 攻克SU-8光刻胶旋涂均匀性难题 :多维度优化策略与创新技术应用 在半导体制造、微机电系统(MEMS)等精密领域,SU-8光刻胶的均匀涂覆是保障光刻工艺精度的关键。然而,旋涂过程中受多种因素干扰,易出现胶层厚度不均、边缘隆起等问题。深入剖析影响因素并结合创新技术,是实现高质量涂覆的核心路径。 一、四大核心因素影响旋涂均匀性 [...]
医用级PTFE涂层制备 超声波喷涂赋能 PTFE 涂层,革新医疗器械性能 在医疗器械领域,PTFE [...]
超声喷涂玻璃陶瓷 超声喷涂玻璃陶瓷 :开启性能升级新篇 在无机非金属材料的广阔领域中,玻璃陶瓷作为一颗璀璨新星,正以独特的性能与优势崭露头角。玻璃、陶瓷和玻璃陶瓷虽同属无机非金属材料(或硅酸盐材料范畴),但微观结构却各有乾坤。玻璃是非晶体,陶瓷属于多晶体,而玻璃陶瓷则是晶相与玻璃相结合的复合材料。如今,众多功能玻璃和陶瓷材料已突破传统硅酸盐或石英的局限,朝着氟化物、磷酸盐等方向拓展,玻璃陶瓷也凭借自身特性,在材料世界中占据重要地位。 玻璃陶瓷是通过高温融化、成型、热处理制成的晶相与玻璃相复合材料,多由玻璃再加工而来,因此也被称为微晶玻璃。它巧妙融合了玻璃和陶瓷的性能,拥有机械强度高、热膨胀系数可调、耐热冲击、耐化学腐蚀、低介电损耗、低导电率等卓越性能,在多个领域展现出巨大的应用潜力。 [...]
方片衬底光刻胶喷涂 :多材料适配与技术突破 在半导体封装、微型电路制造以及新型显示等领域,方片衬底如陶瓷、玻璃、PET等材料的光刻胶喷涂工艺至关重要。不同材质的衬底特性各异,对光刻胶喷涂技术提出了多样化的挑战与需求。 陶瓷衬底硬度高、表面致密,传统喷涂方法易出现光刻胶附着力不足、涂层不均的问题。玻璃衬底表面光滑,要求喷涂技术能实现高精度的胶层厚度控制,避免出现流挂、边缘堆积等缺陷。而PET等柔性方片衬底质地柔软,在喷涂过程中易发生形变,需要非接触式、低应力的喷涂方式 。 [...]
医用亲水涂层 介入治疗中的医用润滑涂层及超声波喷涂亲水涂层优势 在医疗技术飞速发展的当下,介入治疗作为现代医学极具创新性的微创治疗手段,正以其独特优势成为医学领域的焦点。它凭借创伤微小、适用病症广泛、治疗效果显著、术后康复迅速等特点,无疑是未来医学发展的重要方向。而在介入治疗的关键环节中,介入导管扮演着不可或缺的角色。 介入导管的外层多采用聚氨酯(TPU)、聚醚酰胺(Pebax)和尼龙(PA)等高分子材料,这些材料普遍具有疏水性。这种特性导致介入导管在人体内使用时,表面摩擦力较大,在与人体组织和血管接触过程中,容易造成不同程度的损伤。为解决这一问题,在医疗导管表面覆上亲水涂层成为有效途径,它能够显著降低导管表面摩擦力,从而减少对人体的伤害。由此可见,在介入治疗的导管及导丝表面涂覆润滑涂层势在必行。 常规医用润滑涂层主要分为以下几类: [...]
超声波喷涂钙钛矿型太阳能电池 驰飞超声波喷涂:解锁钙钛矿型太阳能电池的无限潜能 在全球能源转型的迫切需求下,太阳能作为清洁可再生能源备受瞩目。而钙钛矿型太阳能电池,作为第三代太阳能电池的代表,以其独特的结构和性能,成为新能源领域的 “耀眼新星”。它利用钙钛矿型的有机金属卤化物半导体作为吸光材料,与传统晶硅太阳能电池相比,不仅光电转换效率更高,生产成本大幅降低,还具备轻柔、透明度好等特点,在光伏建筑一体化、可穿戴电子设备等领域展现出广阔的应用前景。 尽管钙钛矿型太阳能电池优势显著,但在实际应用中仍面临诸多挑战。其中,材料稳定性差和薄膜制备工艺缺陷成为制约其发展的关键因素。钙钛矿材料对水、氧气等环境因素极为敏感,容易发生降解,导致电池性能下降。而传统的薄膜制备方法,如旋涂法,难以实现大面积均匀成膜,且溶液利用率低,无法满足大规模工业化生产的需求。 [...]
柔性衬底喷涂 光刻胶技术:突破与革新 在柔性电子迅猛发展的时代,柔性衬底喷涂光刻胶技术成为制备高精度柔性电子器件的关键。传统刚性衬底光刻技术难以适配柔性材料特性,多种创新喷胶技术应运而生,为柔性电子制造开辟新路径。 旋涂技术:传统旋涂技术通过高速旋转柔性衬底,利用离心力使光刻胶均匀分布。此方法操作简便、成本较低,但对柔性衬底的平整度要求极高,且在旋转过程中,柔性衬底易因离心力产生形变甚至破损,导致光刻胶厚度不均,无法满足高精度柔性电子器件的需求 。 [...]