光刻胶涂布 新趋势:超声波喷胶机的技术突破与应用优势
光刻胶涂布 新趋势:超声波喷胶机的技术突破与应用优势 在半导体制造、精密光学等领域,光刻胶涂布的精度与质量直接影响着产品的性能与良率。随着行业对微小化、精细化的要求不断提升,传统涂布技术的局限性日益凸显。超声波喷胶机凭借创新的超声波雾化技术,为光刻胶涂布带来了革命性的解决方案。 一、雾化技术原理与传统局限 雾化,即液体分裂为细小液滴的过程。液体的表面张力、黏稠度和密度是影响液滴尺寸与均匀性的关键因素。表面张力像“无形的手”,维持液体稳定,阻碍其分裂;黏稠度降低流体振动幅度,抑制细小液滴的产生;而密度较低的流体更易形成小尺寸液滴 [...]


