1 05, 2025

医疗器械涂层技术发展历程与超声波喷涂新突破

By |2025-05-07T14:29:17+08:002025年5月1日|

医疗器械涂层技术发展历程与超声波喷涂新突破 在全球医疗器械技术迭代浪潮中,涂层技术的演变堪称一部浓缩的创新史。从基础性能提升到生物功能赋能,再到智能化集成,这项技术正深刻重塑着医疗器械的临床价值。其发展历程可划分为四大关键阶段,每个阶段都推动着行业向更高水平迈进。 一、基础材料探索与涂层技术萌芽(1940s - 1970s) [...]

1 05, 2025

全钒液流电池石墨毡电极涂覆

By |2025-04-21T15:26:03+08:002025年5月1日|

全钒液流电池石墨毡电极涂覆 超声波喷涂在全钒液流电池石墨毡电极中的创新应用 在新能源蓬勃发展的当下,储能技术的重要性愈发凸显。液流电池作为一种极具潜力的大型储能装置,其功率与容量设计相互独立的特性,宛如一把钥匙,成功打开了解决新能源电力波动性和间歇性问题的大门。不过,要让液流电池在储能领域大放异彩,还有诸多难题亟待攻克。 提高电池系统效率、增强能量输出以及降低成本,一直是科研人员不懈努力的方向。其中,开发性能卓越、稳定且价格亲民的电极材料,成为了关键突破口。在众多电极材料中,石墨毡电极凭借自身优势备受关注。通过在石墨毡电极材料表面修饰金属及金属氧化物等纳米粒子,能够显著提升电极材料的电化学反应动力学性能,让电池的能量效率更上一层楼。然而,目前该电极在循环稳定性方面仍存在不足,这就像是一颗 “绊脚石”,阻碍着其进一步大规模应用。此外,抑制析氧和析氢等副反应,也是当下研究的热点议题,因为这些副反应不仅会降低电池性能,还可能影响电池的使用寿命。 [...]

30 04, 2025

半导体光刻涂胶显影工艺

By |2025-05-07T16:28:50+08:002025年4月30日|

半导体光刻涂胶显影工艺 半导体光刻涂胶显影工艺 新突破:超声波喷涂技术的创新应用 在半导体制造领域,光刻技术作为实现微纳米级图形加工的核心工艺,其涂胶显影环节的精度与效率直接决定着芯片性能与良品率。从设计掩膜图形到晶圆上的实际电路成型,需历经衬底处理、光刻胶涂覆、曝光、显影等11道复杂工序,而超声波喷涂技术的应用,正在为这一精密流程带来革命性改变。 一、光刻工艺全流程解析 [...]

29 04, 2025

光刻胶涂胶新变革

By |2025-05-07T16:19:50+08:002025年4月29日|

光刻胶涂胶新变革 光刻胶涂胶新变革 : 超声波喷涂技术的卓越优势 在现代科技飞速发展的浪潮中,半导体制造、光学器件制造以及光电子等领域持续向高精度、高性能方向迈进。光刻胶,作为这些领域的关键材料,其涂覆质量直接关系到最终产品的性能与可靠性。而如今,超声波喷涂技术正悄然掀起光刻胶涂胶工艺的变革。 [...]

28 04, 2025

超声波喷涂机让光刻胶喷涂更卓越

By |2025-05-07T16:12:44+08:002025年4月28日|

超声波喷涂机让光刻胶喷涂更卓越 电子制造新突破: 超声波喷涂机让光刻胶喷涂更卓越 在当今电子科技日新月异的时代,电子元件的制造工艺不断向着高精度、高性能的方向迈进。其中,光刻胶的喷涂作为电子元件制造过程中的关键环节,直接影响着元件的性能与质量。而超声波喷涂机的出现,犹如一颗璀璨的新星,为光刻胶喷涂工艺带来了革命性的变革。 传统光刻胶喷涂困境 [...]

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