硅片上涂覆光刻胶
硅片上涂覆光刻胶 – 超声波喷涂系统在光刻胶涂覆 – 驰飞超声波喷涂
你是否想过，如何在一片硅片上涂覆一层均匀的光刻胶？今天就来揭秘这个技术。
首先，光刻胶涂复通常采用旋涂法，将光刻胶滴在硅片表面，然后旋转硅片使胶液均匀扩散，形成薄胶膜。现代微电子制造中引入了更先进的光刻胶涂复技术，其中之一是喷涂法。喷涂法使用喷嘴将光刻胶喷洒在硅片表面，以实现更均匀的涂复。
而超声波喷涂系统在光刻胶涂覆中应用的优势有以下几点：首先，高效高质量的涂复：超声波喷涂系统通过微小液滴的形式将光刻胶均匀地附着在基材表面，形成均匀、致密的涂层，避免了传统方法中产生的气泡和颗粒等问题，提高了光刻质量和成品率。其次，高分辨率和精度：超声波喷涂系统采用微米级喷嘴，可以控制光刻胶的喷涂范围和厚度，实现高分辨率和精度的涂覆。最后，节省胶液和降低成本：超声波喷涂系统可以精确控制光刻胶的使用量，减少浪费，降低了制造成本。
超声波喷涂系统在光刻胶涂覆中的应用不仅提高了光刻质量和成品率，还节省了胶液和成本，期待这项技术未来更广泛应用。
关于驰飞
驰飞的解决方案是环保、高效和高度可靠的，可大幅减少过量喷涂，节省原材料，并提高均一性、转移效率、均匀性和减少排放。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持，保证客户涂层稳定量产；针对特殊器械涂层需求，提供涂层定制研发服务；提供各类涂层代工服务。
杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商，产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
