光刻胶介绍
光刻胶（亦称光致抗蚀剂）是一类对辐射敏感的功能性薄膜材料，在紫外光、电子束、离子束或X射线等辐射源的作用下，其溶解特性会发生定向改变。这种材料本质上是以树脂为基质，复配感光剂、溶剂及添加剂的光敏性混合液体，在光刻工艺中作为抗腐蚀涂层实现图形转移功能。
其中，光刻胶树脂作为惰性高分子基底，承担着粘结体系内各组分的作用。该组分主导了光刻胶的力学性能与化学稳定性，包括附着力、胶膜厚度及柔韧性等关键参数。值得注意的是，树脂本身对光不具备响应性，曝光过程中不会发生化学结构变化。感光剂则是光刻胶的光敏核心组分，在光辐射作用下会触发特异性化学反应，是实现光刻图形从掩模版向基底转移的决定性要素。溶剂的主要功能是维持光刻胶在旋涂工艺前的液态流动性，且大部分溶剂会在曝光前通过挥发去除，不影响材料的化学特性。添加剂的引入则用于精准调控光刻胶的化学行为与光反应特性，优化工艺适配性。
在光刻投影环节，通过光学系统将掩模版上的图形转印至光刻胶薄膜表面，经光化学反应、热处理、显影等工艺步骤，完成图形从掩模到胶层的转移。形成的光刻胶图形作为后续工艺的防护层，可对刻蚀、离子注入等工序起到区域选择性阻挡作用。
光刻胶的技术演进与光刻工艺的发展深度耦合。随着集成电路制程对特征尺寸微缩的持续需求，通过缩短曝光光源波长以提升分辨率成为核心技术路径。光刻技术按照曝光光源的波长划分，经历了从436nm的g线、365nm的i线，到248nm氟化氪（KrF）、193nm氟化氩（ArF）准分子激光，再到当前波长小于13.5nm的极紫外（EUV）光刻的迭代升级，推动集成电路制造水平不断突破物理极限。
超声波喷涂技术用于半导体光刻胶涂层。与传统的旋涂和浸涂工艺相比，它具有均匀性高、微观结构良好的封装性和可控制的涂覆面积大小等优点。在过去的十年中，已经充分证明了采用超声喷涂技术的3D微结构表面光刻胶涂层，所制备的光刻胶涂层在微观结构包裹性和均匀性方面都明显高于传统的旋涂。
超声波喷涂系统可以精确控制流量，涂布速度和沉积量。低速喷涂成形将雾化喷涂定义为精确且可控制的模式，以在产生非常薄且均匀的涂层时避免过度喷涂。超声喷涂系统可以将厚度控制在亚微米到100微米以上，并且可以涂覆任何形状或尺寸。
关于驰飞
驰飞的解决方案是环保、高效和高度可靠的，可大幅减少过量喷涂，节省原材料，并提高均一性、转移效率、均匀性和减少排放。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持，保证客户涂层稳定量产；针对特殊器械涂层需求，提供涂层定制研发服务；提供各类涂层代工服务。
杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商，产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
