30 06, 2025

光刻中Overlay技术详解

By |2025-06-20T13:05:51+08:002025年6月30日|

光刻中Overlay技术详解 随着半导体工艺节点迈向5nm、3nm及更先进水平,晶圆上各层图案的对准精度(Overlay)成为影响良率和性能的关键因素。任何微小的对准误差都可能导致电路失效或性能下降。 面对日益复杂的器件结构,Overlay测量工具在不断提升精度的同时,也成功维持了可接受的测量效率,满足了先进制程的双重需求。先进制程的Overlay容差正迅速收紧。例如,在3nm节点(金属间距约22nm),对准精度已进入个位数纳米级别。为确保5nm和3nm节点的良率,业界正采用新的测量目标设计、机器学习方法及更先进的光学测量系统,以加速关键检测流程。 1. Overlay介绍 [...]

29 06, 2025

喷涂光学材料注意事项

By |2025-06-24T10:44:30+08:002025年6月29日|

喷涂光学材料注意事项 喷涂前的准备工作 1. 玻璃表面处理清洁:玻璃表面必须保持清洁,任何灰尘、油污或指纹等都会影响光学材料的附着和光学性能。通常采用化学清洁剂和超声波清洗相结合的方法。例如,先用含有表面活性剂的清洁剂擦拭玻璃表面,去除油污和灰尘,然后将玻璃放入超声波清洗机中,利用超声波的空化作用进一步清除微小的杂质。 表面活化(如有需要):对于一些特殊的光学材料,可能需要对玻璃表面进行活化处理,以增强材料与玻璃的结合力。例如,通过等离子体处理技术,在玻璃表面引入活性基团,使光学材料能够更好地化学键合在玻璃表面。 [...]

29 06, 2025

半导体制造工艺流程及核心设备

By |2025-06-30T13:43:15+08:002025年6月29日|

半导体制造工艺流程及核心设备 全球半导体设备市场持续增长,规模突破千亿美元。作为集成电路产业的基石,半导体设备重要性随器件微型化日益凸显。 制造流程分为三大环节: 1. 前道(晶圆制造):核心加工环节,占设备市场90% [...]

28 06, 2025

高密度芯片元件如何独立工作?

By |2025-06-30T13:43:58+08:002025年6月28日|

高密度芯片元件如何独立工作 ? 现代芯片中,数十亿晶体管、电阻、电容等元件密集排布在指甲盖大小的硅片上。如此高密度下,如何保证元件独立工作?关键在于隔离技术。 隔离的作用至关重要: ● [...]

27 06, 2025

船舶低碳燃料技术路线:氨/氢/甲醇综合对比

By |2025-06-27T14:48:52+08:002025年6月27日|

船舶低碳燃料技术路线 船舶低碳燃料技术路线:氨/氢/甲醇综合对比 政策背景 国际航运减排新规要求2030年碳排放强度降低40%,2050年前后实现净零排放。这推动氨、氢、甲醇成为替代传统船舶燃料的核心选项,三者在技术成熟度、安全性及供应链布局上存在显著差异。 技术可行性分析 [...]

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