光刻胶超声喷涂
微机电系统(MEMS)是以半导体制造技术为基础发展起来的制造技术平台。MEMS技术采用了半导体技术中的光刻、腐蚀、薄膜等一系列现有的技术和材料。MEMS器件以硅为主要材料，用硅微加工工艺在一片硅片上可同时制造成百上千个微型机电装置或完整的MEMS，具有体积小、重量轻等优点。
在光刻工艺中，需要在硅片表面涂覆一层粘附性好、厚度适当、厚薄均匀的光刻胶。光刻胶涂覆技术一般采用旋涂法，由于硅表面往往存在大深宽比的沟槽，旋涂法会造成沟槽内的气泡问题和上表面光刻胶覆盖不良等问题，业内采用溶剂预浸润和涂覆后低压法，进行气泡的消除和覆盖不良的改善，但是效果均不好；为解决该问题，诞生了光刻胶超声雾化喷涂法，在一定程度上解决了上述问题，驰飞的超声波光刻胶喷涂机喷涂颗粒均匀，填充能力强，沟槽底部覆盖良好。
关于驰飞
驰飞的解决方案是环保、高效和高度可靠的，可大幅减少过量喷涂，节省原材料，并提高均一性、转移效率、均匀性和减少排放。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持，保证客户涂层稳定量产；针对特殊器械涂层需求，提供涂层定制研发服务；提供各类涂层代工服务。
杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商，产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
