UEC6000L 中试型超声波光刻胶喷涂设备

UEC6000L 中试型超声波光刻胶喷涂设备

UEC6000L 中试型超声波光刻胶喷涂设备 可以应用于各种纳米及亚微米级功能性涂层薄膜的研发及生产,如:晶圆、半导体、陶瓷片、玻璃表面涂覆光刻胶、聚酰亚胺等光敏性材料。

联系我们

UEC6000L 中试型超声波光刻胶喷涂设备

我们专业提供满足新兴尖端产业需求的定制化解决方案,例如纳米技术、燃料电池、半导体涂层、医疗涂层、喷雾热解等等。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持,保证客户涂层稳定量产;针对特殊器械涂层需求,提供涂层定制研发服务;提供各类涂层代工服务。

平板显示器电路的制作、等离子显示器障壁的制作、液晶显示器彩色滤光片的制作均需采光光刻技术,均需使用不同类型的光刻胶。UEC6000L 中试型超声波光刻胶喷涂设备 可以应用于各种纳米及亚微米级功能性涂层薄膜的研发及生产,如:晶圆、半导体、陶瓷片、玻璃表面涂覆光刻胶、聚酰亚胺等光敏性材料。超声波喷涂技术用于半导体光刻胶涂覆,相比于旋涂、浸涂等传统涂覆工艺,其有着均匀度高、对微结构包裹性好、涂覆面积可控等优势。超声喷涂是一种简单有效且经济稳定的光刻胶涂覆解决方案,超声喷涂系统可良好的控制喷涂流量、涂覆速度和载料量,极低的载气流量确保了喷涂面积的精确性。

  • 适用于研发及小批量生产
  • 落地型设备
  • 原料利用率可达95%
  • 涂层均一且稳定,均匀度±5%
  • 有效喷涂面积:650mmX 650mm

特征与参数

特征

• 轻柔,低速的喷雾,避免过量喷涂
• 减少80%的涂料消耗量
• 减少空气污染
• 喷头自清式设计不易堵塞
• 大大减少设备的停机维护时间
• 超低流量的连续或间断式精确喷涂
• 抗腐蚀的不锈钢和钛材料结构

基本参数

• 尺寸:1800 *1200 *1940mm
• 超声波系统*:配备宽幅型喷头
*颗粒平均粒径:38um
*喷涂幅宽:10- 80mm
*喷涂膜厚:10nm-100um
*喷涂流量范围:0.5- 50m/min
• 电源输入:220V AC 50/60HZ

您想要了解更多超声波喷涂吗?

联系我们
  • 电话:0571-87910406

  • 手机:13372540303
  • 微信:13372540303

  • QQ: 964840129
  • 中国客户咨询邮件:market2@cheersonic.com

  • 海外客户咨询邮件:market3@cheersonic.com
  • 地址:浙江省杭州市富阳区场口镇创业路11-13号

联系我们