半自动喷胶机
半自动喷胶机 – 匀胶喷胶热板显影 – 喷涂光刻胶 – 驰飞超声波
在 MEMS（微机电系统）加工与精密基板制造领域，基板表面的结构化特征已成为喷涂工艺的核心挑战 —— 高度结构化的晶圆形貌易形成涂覆 “阴影区”，深度 MEMS 腔室与微孔结构难以实现均匀覆盖，而不平整表面更易导致传统喷涂出现涂层堆积、漏涂等问题，直接影响器件的光刻精度与最终性能。驰飞 UAM6000 超声波精密喷胶机正是针对这一痛点打造的专用装备，凭借精准的工艺设计与核心技术突破，成为解决复杂基板涂覆难题的关键方案。
作为一款聚焦研发与小批量生产的精密喷胶设备，UAM6000 的定位极具针对性：其核心应用场景覆盖研究与开发实验室的工艺验证、MEMS 加工的试产阶段及小量产需求，既能满足科研人员对工艺参数的灵活调试需求，又能通过稳定的性能保障小批量生产的一致性。这种 “研发 – 试产” 双适配特性，使其在半导体、微机电等高精度制造领域备受青睐。
设备的均匀喷涂能力源于两大核心技术创新：其一为工艺优化的超声波雾化喷嘴。该喷嘴集成高频振动模块，可将低粘度专用光刻胶高效雾化为直径 5μm-20μm 的精细液滴，液滴均一性达 95% 以上 —— 这种微量化雾化效果不仅能避免传统喷嘴因液滴粗大导致的涂层不均，更能让液滴精准渗透至深度 MEMS 结构的腔室、微孔等隐蔽区域，解决 “凹陷处涂覆不足” 的行业难题。同时，喷嘴对低粘度光刻胶的适配性经过特殊调校，可有效避免雾化过程中的液滴团聚与管路堵塞，保障工艺连续性。
其二为 “弓” 字型行进路径与封闭式工艺室的协同设计。在封闭式腔体内，喷嘴由高精度 XYZ 三轴运动系统驱动，沿预设的 “弓” 字型轨迹匀速移动：这种路径设计能实现基板表面的无死角覆盖，尤其针对不平整表面的凸起与凹陷区域，通过调整轨迹间距（最小可达 0.1mm）与喷嘴高度，确保每一处表面的液滴沉积量一致。而封闭式工艺室则为喷涂提供了稳定的微环境 —— 内置的温湿度控制系统（温度精度 ±1℃，湿度精度 ±5%）可避免外界粉尘污染与气流干扰，配合腔体内的层流导向结构，使雾化液滴沿固定方向均匀沉积，涂层厚度公差可控制在 ±0.5μm 内，实现高度可再现的喷涂效果。
针对实验室常见的小尺寸基材需求，UAM6000 更展现出极强的适配性。其工作台支持 11cm、33cm 等小规格基材的精准定位，通过搭载的视觉对位系统，重复定位精度≤0.01mm；同时，设备的精密供液系统可实现 0.001mL/min 级别的流量调节，在小基材喷涂中能精准控制涂覆量，既避免光刻胶浪费（材料利用率达 90% 以上），又能保证小面积基板上涂层的均匀性 —— 这一特性对 MEMS 微型器件（如微型压力传感器、微执行器）的研发至关重要，可直接提升光刻图案的清晰度与器件的成品良率。
从工艺适配性来看，UAM6000 不仅适用于光刻胶的自动喷涂，更可无缝融入喷雾显影工艺：在显影环节，其雾化系统能将显影液转化为精细雾滴，均匀作用于光刻胶表面，避免传统浸泡显影导致的图案边缘模糊问题。这种 “喷涂 – 显影” 一体化适配能力，进一步简化了实验室的工艺流程，为科研人员提供了更高效的工艺验证工具。
关于驰飞
驰飞的解决方案是环保、高效和高度可靠的，可大幅减少过量喷涂，节省原材料，并提高均一性、转移效率、均匀性和减少排放。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持，保证客户涂层稳定量产；针对特殊器械涂层需求，提供涂层定制研发服务；提供各类涂层代工服务。
杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商，产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
