TRACK设备是什么
TRACK设备是一种在光刻工艺中用于涂胶、烘烤以及显影的设备，通常与光刻机联机作业（In line），组成配套的圆片处理与光刻生产线，以完成精细的光刻工艺流程。
工作过程
在TRACK设备中，光刻工艺流程是连续进行的。首先，涂胶机子系统将光刻胶均匀涂布在晶圆上，随后通过冷热板烘烤系统进行预烘。接着，晶圆被送入曝光机进行图案曝光，曝光完成后再次送回TRACK设备的显影子系统进行显影处理，从而完成图案的化学固定。
技术亮点
- 精确控制：TRACK设备配备了高度先进的控制系统和软件，能够精确控制涂布过程中的温度和压力等参数。例如，将温度控制在±0.1°C的精度内，有效避免光刻胶的不均匀分布，提高图案的精细度和一致性。
- 支持多种工艺：现代的TRACK设备支持i – line、KrF和ArF等不同波长的光刻技术，可适应多种光刻工艺需求。
- 严格环境控制：设备的设计允许进行严格的环境控制，有助于提高整体产线的产能和降低缺陷率。
系统组成
- 主要部分：包括涂胶机子系统、冷热板烘烤系统、显影子系统。
- 其他部分：有wafer的传输与暂存系统、供/排液子系统和通信子系统等，各部分协同工作，确保光刻工艺流程的顺利进行。
在半导体制造中，前道晶圆加工环节中，offline设备和inline设备（如TRACK设备与光刻机联机）搭配使用，且对应不同的工艺制程，设备配置也有所不同；而后道先进封装环节大多仅使用offline设备。TRACK设备在光刻工艺中起着关键作用，对于实现高精度、高性能的半导体制造具有重要意义。
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