一、工艺概述：突破传统旋涂局限，适配各类非常规基材

在微电子与精密器件制造中，传统离心旋涂工艺仅适用于常规平整晶圆基材，面对大尺寸、曲面、异形及各类非常规基底，极易出现涂层堆积、条纹瑕疵、边缘珠粒过厚、厚薄不均等问题，工艺适用性极差。

驰飞超声波超声喷涂系统针对性解决非常规基材光刻胶沉积难题，可在各类复杂基底表面与微细结构上，沉积出高度均匀、贴合性优异的光刻胶薄膜。全程无聚集、无条纹、无过量边缘珠缺陷，可精准完成先进光学、微电子、半导体、生物医学器件的光刻制程。同时支持薄膜厚度精准可控、涂层附着力稳定可靠，可灵活调配光刻胶溶剂混合体系，自由调节干湿成膜特性，适配多元化精密制造需求。

二、多场景应用：覆盖全品类非常规基材精密涂覆

1. 大尺寸光学与显示面板基材

针对平面显示面板、大型光学镜头、衍射元件、增透光学元件及各类自由曲面光学器件，驰飞超声波超声喷涂光刻胶工艺可实现整面全覆盖与精准边缘控制。即便在曲面、非平面异形基底表面，软烘烤后的光刻胶薄膜仍能保持极佳的厚度均匀性，非常适用于AR/VR光学器件、衍射结构加工、高分辨率微纳光刻图案制备等高端场景，完美突破传统工艺对平面基材的限制。

2. 微流控与生物传感器基材

在微流控芯片、生物传感器、芯片实验室（Lab-on-a-Chip）制造领域，设备可在玻璃、PMMA、COC、PDMS等高分子聚合物及复合混合基材表面，实现光刻胶稳定附着。依托可控精细化雾化液滴技术，可形成表面平整、溶剂兼容性强、图案精度极高的光刻胶薄膜，在大幅降低光刻胶耗材的同时，稳定保障介电层、聚合物薄膜的厚度一致性，提升微纳器件生产良率。

3. 金属及导电类基材

传统工艺难以适配金属基材光刻胶均匀涂覆，易出现漏涂、厚薄不均、附着力差等问题。驰飞超声波超声喷涂可直接在金、铂、铜、铝、不锈钢等各类金属、导电基底上精准沉积光刻胶，广泛应用于电化学生物传感器、MEMS微机电系统、微波及射频电路等领域。即便面对高反光、低润湿性的金属表面，仍可实现全域均匀覆盖与微米级厚度精准控制，保障微细结构、侧壁图案的光刻精度。

4. 柔性基材与卷对卷量产制程

面向柔性电子产业，包括有机薄膜晶体管（OTFT）、柔性太阳能电池等产品的生产需求，超声喷涂工艺支持低温成膜、高效溶剂适配，可无缝兼容连续式卷对卷自动化生产线。设备搭载闭环工艺控制系统，材料转移效率高，在大幅减少化学品耗材损耗的同时，稳定保障大面积柔性基材的涂层精度，实现精细化、规模化量产。

5. 特殊聚合物与介电层微纳图案化

针对光子晶体、聚合物微纳系统、超材料、光波导等高端微纳器件，超声喷涂光刻胶可在各类微型、纳米级精细结构表面形成贴合性极佳的掩膜与模板涂层。工艺兼容性极强，可适配正性光刻胶、负性光刻胶、UV固化光刻胶等多类材料，满足特殊介电结构、高分子材料的高精度图案化加工需求。

三、核心技术优势

驰飞超声波全系喷涂系统的核心为自主专利超声波喷嘴技术，通过高频声波振动生成形态规整、参数可控的柔和雾化液滴。区别于传统压力雾化工艺，全程无高压挤压、无喷嘴堵塞问题，液滴粒径分布均匀，从根源保障光刻胶薄膜沉积的平整度与一致性，核心优势如下：

• 适配大尺寸、曲面、异形非常规基材，成膜均匀、贴合性强
• 大幅削减边缘珠粒缺陷，有效提升光刻制程分辨率与精度
• 支持闭环厚度调控，工艺稳定性高、重复性优异
• 兼容玻璃、各类聚合物、PDMS、金属、柔性薄膜等多类基材
• 材料转移效率高，显著降低光刻胶与溶剂耗材成本
• 灵活适配批量单片生产与卷对卷连续自动化量产场景

我公司致力于打造一支高科技的研发和管理团队，深耕于市场，逐步成为全球化高端创新型超声波解决方案的引领者。
主要产品包括：实验室超声波纳米喷涂设备，高精密在线式纳米喷涂设备，医疗器械纳米喷涂设备，定制化精密超声波喷涂设备、超声波生产型流水线喷涂设备。