直接喷涂光刻胶涂层技术已应用于 MEMS 晶圆及其他 3D 微结构的加工，实践表明，与传统的旋涂工艺相比，光刻胶超声喷涂技术能实现更均匀的涂层沉积，尤其在高深宽比沟槽和 V 型槽结构的侧壁顶部区域表现突出 —— 在这些区域，传统离心旋涂工艺若要在侧壁沉积均匀薄膜，必然会导致腔体底部光刻胶过度堆积，而超声喷涂可避免这一问题。

在光刻湿法工艺的光刻胶涂覆环节中，超声喷涂相较于化学气相沉积（CVD）或原子层沉积（ALD）等技术，具有操作简便、成本更低且工艺重复性强的特点。超声涂覆系统通过先进的分层涂覆技术，可实现流量、涂覆速度和沉积量的精准调控。其低流速喷雾成型技术能将雾化喷雾约束为精确可控的形态，在避免过喷浪费的同时，形成超薄且均匀的涂层。实践验证，超声直接喷涂技术为 3D 微结构的光刻胶沉积提供了可靠解决方案，有效降低了因金属过度暴露于蚀刻剂而引发的器件失效风险。

我公司致力于打造一支高科技的研发和管理团队，深耕于市场，逐步成为全球化高端创新型超声波解决方案的引领者。
主要产品包括：实验室超声波纳米喷涂设备，高精密在线式纳米喷涂设备，医疗器械纳米喷涂设备，定制化精密超声波喷涂设备、超声波生产型流水线喷涂设备。