超声波喷涂机喷涂SU-8光刻胶:突破传统涂覆瓶颈的创新方案
超声波喷涂机喷涂SU-8光刻胶 超声波喷涂机喷涂SU-8光刻胶 : 突破传统涂覆瓶颈的创新方案 SU-8光刻胶是一种基于环氧树脂体系的负性近紫外光刻胶,其分子结构内含8个环氧基团,在紫外线照射下发生交联反应,形成稳固的网络结构。凭借在近紫外光365–400nm波段极低的光吸收度、优异的机械强度以及出色的抗化学腐蚀性和热稳定性,SU-8已成为MEMS、微流控芯片和先进封装等领域制备高深宽比微结构的理想材料。然而,要充分发挥SU-8的性能潜力,均匀、无缺陷的光刻胶涂覆是第一步,也是最关键的一步。 [...]


