桌面型超声波半导体光刻胶喷涂机

驰飞致力于解决客户各种超声波喷涂方案,超声波喷涂运用于半导体光刻胶喷涂,较传统的旋涂、浸涂处理方式。具有均匀度高、 涂层区域可控等优势。事实证明,超声波喷涂处理的光刻胶表面涂覆,其制备出的光刻胶涂层在微结构的均匀性和均一性方面都高 于传统的旋涂工艺。超声波喷涂是一种显著高效且经济的光刻胶涂层处理方式。驰飞的喷涂系统具有精确、控制流量、精准控制速 度等特点。极低的载气量在喷涂过程中轻柔、无冲击,极大的避免了液体的过喷问题,大大提高了液体的利用率。

应用

• 晶圆
• MEMS
• 微流控芯片
• 镜头
• 过滤器

设备特点

• 超声波喷头,颗粒粒径在0-40um
• 均匀度及均一性高
• 无接触式喷涂
• 微流量喷涂,多种进液方案
• 速度控制精度高
• 液体利用率高

光刻胶喷涂视频