光敏性聚酰亚胺的基本介绍 光敏性聚酰亚胺（PSPI）是一种具有独特性质的高性能材料，广泛应用于电子和微电子领域。它结合了传统聚酰亚胺（PI）的优异物理化学性质和光敏材料的特性，为半导体制造、精密电子设备和高性能电路板提供了革命性的解决方案。 物理化学特性 高温稳定性：PSPI能够在极宽的温度范围内（通常从-269°C至+400°C）保持其物理性能不变，这使其成为在极端环境下应用的理想选择。 优异的电气性能：PSPI具有低介电常数和高介电强度，这意味着它能够提供良好的电气绝缘，同时抵抗高电压的冲击。机械性能：这种材料具有高强度、高韧性和良好的抗冲击性，即使在薄膜形态下也能保持这些性能。化学稳定性：PSPI对多种有机溶剂、酸、碱展现出极高的抵抗力，保证了在化学处理过程中的稳定性和可靠性。 [...]

配备3个超声波喷嘴的超声波支架涂层机 我们的 配备3个超声波喷嘴的超声波支架涂层机 ，重新定义了支架涂层技术的格局。这些机器的设计非常精确，专门为满足医疗器械行业的需求而量身定制。 在支架生产领域，我们的超声波支架喷涂机是效率的典范。它具有同时喷射3个药物洗脱支架的显著能力。通过利用超声波振动，涂层材料被雾化成极细的液滴。这确保了每个支架上均匀一致的涂层，这对其疗效至关重要。在临床环境中，精确涂层的药物洗脱支架可以在较长一段时间内有效释放治疗剂，防止再狭窄并改善患者预后。 [...]

催化剂涂覆工艺 催化剂涂覆工艺 - 催化剂涂层 - [...]

带加热底板的台式涂布机 UAM4000L 带加热底板的台式涂布机 是一款卓越的设备，以紧凑的设计实现强大的功能。首先，其可更换的喷头具有极高的通用性，使用户能够轻松适应不同的涂布要求。无论是用于精细表面的细雾喷涂，还是用于较大面积的较宽喷涂模式，只需更换喷头即可。其次，加热底板是一个突出的特点，其最高温度可达200摄氏度。这对于需要精确温度控制的工艺至关重要，例如固化某些涂层。最后，超声波液体分散系统可确保液体被分解成均匀的微小液滴，每次都能保证涂层的喷涂平滑且均匀。  [...]

光刻胶的作用 光刻胶是一种在微电子制造、半导体加工以及其他一些高精度图案化加工领域中起着至关重要作用的材料，以下为你详细介绍它的具体作用： 一、图形转移作用 在半导体芯片制造等精密加工过程中，光刻胶充当了图形转移的关键媒介。其基本原理是基于光刻技术，通过光刻设备（如光刻机）将设计好的电路图案等从掩模版（一种带有预先设计图案的模板）转移到光刻胶层上，具体步骤如下： - [...]

用于电解槽电极制造的超声波涂覆机 用于电解槽电极制造的超声波涂覆机 ，是能源和电化学领域的一项重大突破。这种最先进的设备利用超声波技术，彻底革新了涂覆工艺。通过发射高频声波，它将涂覆材料分解成超细微的液滴，确保能够均匀且精确地涂覆到电极上。在电解槽的应用中，高效的电子转移和耐用性至关重要，而这种涂覆机就具备了优势。它可以增强电极的催化活性，降低过电位，并延长电解槽的使用寿命。无论是用于燃料电池还是工业电解，它都是优化电极性能不可或缺的工具。  关于驰飞 [...]

亲水性电极涂层 亲水性电极涂层 - 氧化还原液流电池组 - [...]

一文读懂光刻胶 在半导体工艺制程中，由于经常需要制备复杂的微结构，可能每一次光刻的需求都天差地别，有时需要正性光刻胶提升分辨率，有时需要负性的光刻胶做剥离（Lift-off），有时需要厚的光刻胶做深槽刻蚀。那么它们是如何满足这些需求的？经常使用的光刻胶有哪些，以及它们的原理是什么？ 正胶 正胶成分：通常正胶主要由光敏剂、树脂和溶剂组成。市场上的光刻胶体系有很多，我们以常规DQN双组分体系正性光刻胶为例，以便理解。其主要有三部分组成：酚醛树脂（Novolac）、光敏剂重氮醌（DQ）、二甲苯（溶剂）。 曝光原理：DQ体系利用的是Wolff重排反应，其中DQ中的α-重氮醌在光照下放出氮气和醌自由基，再发生1,2-重排反应生成醌酮，然后在水的作用下，酮基进一步转化为羧基，可以与碱性显影液发生酸碱反应，加速溶解。最终，曝光的区域显影速度快，实现正胶图形化。 [...]

OER 电催化剂研究进展 为充分彰显 AEM 电解技术低成本的优势，开发非贵金属催化剂对降低 [...]

采血管和注射器涂层 采血管和注射器涂层 - 医疗器械涂层 - [...]