半导体涂层

超声喷涂系统可以使用先进的喷涂技术来精确控制流速、镀膜速度和沉积量。低速喷涂成型将雾化喷涂定义为精确,可控的图案,在生产非常薄且均匀的涂层时避免过度喷涂。事实证明,使用超声波技术进行喷涂是在3D微结构上沉积光致抗蚀剂的可靠且有效的方法,从而减少了由于过多的金属暴露于蚀刻剂而导致的设备故障。

超声波喷涂系统已被证明适用于需要均匀、可重复的光致抗蚀剂或聚酰亚胺薄膜涂层的各种应用。杭州驰飞的喷涂系统可以控制从亚微米到100微米以上的厚度,并且可以涂覆任何形状或尺寸。它是其他涂层技术(例如旋涂和传统喷涂)的可行替代方案。

杭州驰飞的无阻塞超声涂层技术以其功能性和保护性材料的超薄微米涂层而闻名。喷嘴的超声振动有效地将颗粒分散在悬浮液中,并在薄膜层中产生非常均匀的颗粒分散,而导电颗粒没有从悬浮液中沉降出来。

在过去的十年中,对半导体进行了直接喷涂光刻胶涂层,并且对喷涂结果进行了深度研究,超声喷涂的光刻胶涂层显示出优于传统的旋涂。超声波喷涂是一种简单、经济和可重复的工艺,用于光刻晶圆加工中的喷涂光刻胶涂层。超声波喷涂系统可对流速、沉积速度和沉积量进行精细控制。低速喷雾成形,避免过喷,同时产生非常薄且均匀的涂层。

超声波喷涂半导体技术

  • 晶片
  • MEM
  • 透镜
  • 微流控芯片
  • 滤光片
  • 电子元器件
  • 印制电路板
  • 高均匀性和均一性
  • 非接触喷涂
  • 微流喷涂,多种液体进料方案
  • 高速控制精度
  • 高液体利用率
  • 能够以高均匀性沉积单微米薄层
  • 不易堵塞的超声波喷头
  • 各种表面轮廓的均匀薄膜覆盖
  • 高度可重复的成熟喷涂工艺

超声波喷涂设备

我公司致力于打造一支高科技的研发和管理团队,深耕于市场,逐步成为全球化高端创新型超声波解决方案的引领者。
主要产品包括:实验室超声波纳米喷涂设备,高精密在线式纳米喷涂设备,医疗器械纳米喷涂设备,定制化精密超声波喷涂设备、超声波生产型流水线喷涂设备。

UEC4000 超声波光刻胶喷涂设备

超声波光刻胶喷涂设备
喷涂面积*: 400 x 400mm

UEC4000L
UEC6000S 超声波光刻胶涂覆设备

超声波光刻胶涂覆设备
喷涂面积*: 500 x 500mm

UEC6000S
UEC6000L 中试型超声波光刻胶喷涂设备

中试型超声波光刻胶喷涂设备
喷涂面积*: 650 x 650mm

UEC6000L
UEC6000XL (抽屉式) 超声波大面积光刻胶涂覆设备

超声波大面积光刻胶涂覆设备
喷涂面积*: 1280 x 710mm

UEC6000XL (抽屉式)

兆声波清洗系统

槽式兆声清洗系统

槽式兆声清洗系统
兆声频率 1MHz, 750kHz
最大声强 5.5W/cm2
最大功率 1200-4800W

槽式兆声清洗
兆声喷头

兆声喷头
兆声频率 1000kHz
最大功率 40W
最大功率 1200-4800W

兆声喷头
贴合式兆声清洗系统

贴合式兆声清洗系统
兆声频率 1MHz
功率密度 <2W/cm2
液体流量 0.5-3.0 L/min

贴合式兆声清洗