光刻工艺总结： l.光学光刻技术是一种图形化工艺，它使用紫外线将光刻版或倍縮光刻版上设计的图形转移到暫时涂敷在品表面的光刻胶上。 2.正光刻胶紫外线光后会变成可溶性的；负光刻会因为聚合物交联作用而成为不可溶性的。正光刻胶因为有较高的分辨率而较常使用。 3.工光刻餃由聚合、感光剂、溶剂和添加剂组成。 4。基本的光学光刻工艺流程为：磊清洗、预烘烤和HMOS底漆层涂、光刻胶自旋涂敷、软烘烤、对准与曝光，曝光后烘烤，去除光学边缘小珠、显影、崆烘烤和图形检测， [...]

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