半导体晶圆旋涂替代方案 超声喷涂实现高精度薄膜沉积
半导体晶圆旋涂替代方案 超声喷涂实现高精度薄膜沉积 晶圆级超声喷涂可替代半导体传统旋涂工艺，用于光刻胶沉积、MEMS [...]
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07, 2026
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07, 2026
半导体晶圆聚酰亚胺喷涂工艺 | 精密绝缘介电涂层量产方案
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07, 2026
微电子涂层工艺 | 光刻胶、纳米材料、先进封装喷涂技术
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07, 2026
面板级封装（PLP）/先进封装
面板级封装光刻胶超声喷涂系统 | 替代旋涂 [...]
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07, 2026
铱系多元复合涂层钛阳极 （Ir基MMO/DSA阳极）
铱系多元复合涂层钛阳极 （Ir基MMO/DSA阳极） 一、基本定义 全称：钛基铱系多元混合金属氧化物涂层阳极，属于尺寸稳定阳极（DSA/MMO阳极）。 以TA1/TA2工业纯钛为基体，表面涂覆以IrO₂（二氧化铱）为核心，复配Ta、Sn、Mn、Ru、稀土等多种金属氧化物构成多元复合催化涂层，是目前酸性体系析氧反应（OER）首选工业电极。 [...]
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07, 2026
非常规基材光刻胶沉积
非常规基材光刻胶沉积 | 曲面柔性金属基材超声喷涂解决方案 [...]
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07, 2026
SU-8光刻胶复杂微结构加工优势
SU-8光刻胶复杂微结构加工优势 SU-8光刻胶复杂微结构加工优势 | 异形沟槽微孔超声波喷涂 在微纳加工领域，SU-8光刻胶堪称“全能型选手”。它之所以被广泛使用，正是因为它在制备异形、凹槽、微孔、沟槽等复杂几何结构时，展现出无可比拟的优越性。以下是它的核心优势： [...]
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07, 2026
正性光刻胶
正性光刻胶 （Positive Photoresist，正胶） 核心机理：曝光区域在碱性显影液中溶解去除，未曝光区域保留，得到与掩模版完全一致的图形。 [...]
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07, 2026
功能性纳米材料均匀薄膜涂层 | 碳纳米管石墨烯精密沉积工艺
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07, 2026
SU-8光刻胶 | MEMS/微流控专用厚膜负胶 性能参数&应用详解
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